VUV真空紫外組 光清洗機助您的清洗工藝完成從TN STN TFT的升級航天宏達完全自主研發的真空紫外光清洗機獲國家發明專利保護！ 一流的元器件生產制造 + 一流的研發設計 ，造就一流的尖端設備！ 我們專門為大專院校實驗室、研究所實驗室、企業實驗室等需要高潔凈度清洗的機構，設計制造了小型機組，以滿足廣大用戶的迫切需求！ 真空紫外光清洗機除用于液晶生產中需清洗的各道工序外，還有十分廣泛的領域如：1）晶片清洗（ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅）2）帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理3）在液晶顯示器件、半導體硅晶片；4）集成電路、高精度印制電路板5）光學器件、密封技術。等等 在光電顯示領域，其液晶品種從TN STN TFT的逐步升級；從黑白到彩色，從低分辨率向高分辨率，從小屏幕到大屏幕的發展已成為必然趨勢。同樣的，在高精度表面清洗領域也在進行著技術的革命與升級，原有的超聲、化學清洗已不能滿足當前清洗潔凈度要求。 我公司借鑒國際上最新的光化學原理技術。開發出了具有獨立知識產權的符合中國國情的光清洗機，其清洗潔凈度達到 原子級 。基本原理與傳統的清洗技術如化學法、物理法（例超聲波）不同，與新近發展的等離子體清洗、激光清洗等也有較大不同。主要是應用光化學原理與技術，技術關鍵在于特種大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理為利用光子能量將有機物的高分子鏈、大分子鏈，斷裂成小分子、原子、自由基等，經光子的作用產生激態氧原子O*，O*將斷裂后的有機物質強氧化變成CO2,H2O等揮發，隨排氣排出，不留任何痕跡，屬干式法，無接觸型；常溫、常氣壓下無損傷，不使用任何化學藥品，環保無二次污染；對物體表面的最難清洗的油脂及有機污染物有特殊清洗效果。大功率特種專用紫外光源是其中的關鍵技術，其波長已延伸到真空紫外段，我公司結合中國航天技術資源，經幾年攻關已完成多項專利技術，如：真空紫外光譜儀，大功率熱、冷陰極光清洗機專用光源，清洗效果測試設備等。我公司的光清洗機系列產品，主要創新點是：寬溫區恒照度、大功率紫外光源、優化氣氛控制的自控系統、自動化程度高、自凈化設計等。具有，工作穩定，利用光子作用實現了對污染物的分解、氧化、氣化，并被排除。