FMR 1、 特性 1)FMR是負性感光抗蝕劑，有較好的耐酸、耐酸性。 2)FMR的解像性比較好，由于抗蝕劑中的金屬離子含量極少，所以適合于半導體管（電晶體）、二極 體、IC（積成電路）和LSI（大規模高密度積成電路）等方面使用。 2、 使用方法 1)表面處理 對金屬板進行完全的脫脂、脫錆，請用本公司的Neocupron(用水稀釋5-10倍)和弱堿水（2%氨水進行中和， 脫脂后請充分用水洗。 2)涂布處理 可用多種涂布方法如旋轉、浸蘸、噴涂等。 3)烘干 置入熱風恒溫干燥器中，80-100℃，20分鐘：或置于加熱板上，80-100℃2分鐘。 4)曝光 用i線（365nm）~g 線（436nm）曝光。 5)顯象 使用FMR顯像液，在常溫下顯影1分鐘，用FMR洗滌液沖洗澡間30秒。 6)烘烤 在150℃的情況下，加熱20-30分鐘，或置于加熱板上，150℃，3分鐘，可提高耐腐蝕性。 7)蝕刻 按常規處理 8)剝膜 使用FMR剝膜液，在常溫下浸漬2-3分鐘，然后用水洗。