用途	用水指標	參考標準
單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產	電阻率15 ~18.25 M .CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997美國半導體工業用純水指標
單晶硅半導體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業	電阻率15 ~18.25 M .CM	美國半導體工業用純水指標我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
光學材料清洗用水、電子陶瓷行業用純水、尖端磁性材料用純水	電阻率10 ~17 M .CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997美國半導體工業用純水指標
蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產	電阻率5 ~10 M .CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997
有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產用水、航空新材料生產用水、ITO導電玻璃制造用水、電子級無塵布生產用水	電阻率15 ~18.25 M .CM	我國電子級水質技術指標，GB11446-1-1997美國半導體工業用純水指標

主要工藝流程和出水指標：※預處理 反滲透 離子交換器（電阻率 15M .CM）※預處理 二級反滲透 EDI（電阻率 15M .CM）※預處理 二級反滲透 脫氣膜 EDI 拋光混床（電阻率 18.25M .CM）詳細工藝需根據原水設計情況進行設計純水設備的主要特點

▼采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產水水質高而穩定； ▼在線水質監測控制，實時監測水質變化，保障水質安全； ▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全； ▼切合當地水質的個性化設計，設想周到的堆疊式設計，占地面積小，全方位滿足需求。▼運行費用及維修成本低，全自動運行，實現無人化管理操作。