全自動電化學CV分布儀CVP21本設備適用于評估和控制在半導體生產中的外延過程并且以被使用在多種不同的材料上，　例如：Silicon,Germanium,III-VincludingIII-Nitrides.CVP21的凈室和模塊化的系統設計結構使得本系統可以高效率，準確的測量半導體材料（結構，層）中的摻雜濃度分布．選用合適的電解液與材料接觸，腐蝕，從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過程由軟件全自動控制提供免費樣品測試并提供測試報告。保修期：2年，終身維修。對用戶承諾終身免費樣品測試每月1次