技術參數 GD-Profiler系列包括2種型號，全部裝備RF射頻光源，每種型號均有多種選配件，用于滿足不同用戶的測試要求和預算。GD-Profiler2可測試多種樣品，有著極寬廣的應用范圍，GD-ProfilerHR是目前商品化的輝光光譜儀中性能最高的。*RF射頻發生器-標準配置，符合E級標準，穩定性高，濺射束斑極為平坦，等離子體穩定時間極短，表面信息無任何失真。*脈沖工作模式既可分析常見的涂、鍍層和薄膜，也可以很好的分析熱傳導性能差和熱易碎的涂、鍍層和薄膜。*多道(同時)型光學系統可全譜覆蓋，光譜范圍：110nm至800nm，包含遠紫外，可分析C,H,O,N,Cl*HORIBAJobinYvon的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器有最大光通量，因而有最高的光效率和靈敏度*專利HDD 檢測器可進行快速而高靈敏的檢測，動態范圍達到10個量級*寬大的樣品室方便各類樣品的加載*功能強大的QUANTUMTXP軟件可以多種格式靈活方便的輸出檢測報告*激光指點器(CenterLitelaserpointer，專利申請中)可用于精確加載樣品*HORIBAJobinYvon獨有的單色儀(選配件)可極大的提高儀器的靈活性，可同時測定N+1個元素 主要特點 HORIBAJobinYvon所生產的輝光放電發射光譜儀(RF-GD-OES)采用射頻(RF)光源，可以進行導體和非導體材料的基體、表面、逐層分析，是一種快速的、操作簡單的分析手段。GDS是一種理想的表面、逐層分析工具，分析深度高達幾百微米，深度分辨率可精確至原子層。HORIBAJobinYvon所生產的輝光放電光譜儀(GD)全部采用專利技術的HDD(HighDynamicrangeDetection)檢測器，可以實時、自動優化工作參數，在靈敏度和動態范圍不受任何損失的情況下，一個分析通道就能完全滿足同一元素在不同層面內微量和主量的測定。