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公司基本資料信息
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| 加工定制:是 | 最大電壓: （V） |
| 功率: （W） | 額定溫度:600（℃） |
| 主要用途:半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。 |
※應用領域：
CNT生產的PECVD（等離子增強化學氣相淀積）設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100～600oC可調 ) ，特別適用于半導體器件和集成電路的鈍化，用以提高器件和集成電路可靠性。目前，它已成為微電子和光電子領域科研和生產不可缺少的設備。
※產品描述：
CNT公司PECVD設備主要由全真空專用不銹鋼腔體，分子泵高真空系統，電源，生長機體載體及溫控系統，獨立排氣和生長壓力調節系統，冷卻循環水輔助設備等組成。整機結構緊湊、操作方便、抽真空速度快。此設備控制系統采用邏輯按鈕手動控制與工控機自控控制可選。實現真空抽氣和鍍膜工藝一體化功能。此設備可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si：H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介電、半導體及金屬膜等。
※技術指標：
參 數 名 稱 | 單 位 | 配置 |
沉積類型 | 二氧化硅，氮化硅，類金剛石等 | |
電 源 | 射頻電源，帶正向功率和反射功率計指示，帶匹配器 | |
加熱系統 | 平板式雙反應室系統，帶加溫和勻氣系統 | |
工 作 溫 度 | ℃ | 100~600℃ |
基片臺尺寸 | ( H)mm | 1英寸、二英寸、三英寸、四英寸 |
基片臺轉速 | 轉速0-20RPM | |
控 溫 精 度 | ℃ | 1 |
極限真空 | pa | 8.0 10-5 |
密封系統 | 磁流體密封 | |
水冷、氣路系統 | 冷卻水循環機、無噪聲氣泵 | |
報警及保護 | 對缺水、過流過壓、斷路等異常情況進行報警及相應保護措施 | |
真空系統 （選 配） | 真空系列 | 單級機械泵、擴散泵機組、分子泵 |
工作腔體 | 不銹鋼 | |
氣氛系統 | 浮子流量計、進口、國產質量流量計 | |
記錄裝置 | 進口、國產無紙記錄儀 | |
備注：西尼特可根據閣下要求提供各種非標產品的設計制造，歡迎來函、來電咨詢！ 24小時熱線：400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223 cntdl@sina.com http://www.cimitdl.com | ||
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