20 余年硬質膜涂層與PVD 設備的制造經 驗，自主Know-How 與專利之完美體現。 電弧數量15 套，其中（1）瓷鏡式過濾電 弧5 套，用于鍍膜底層和梯度膜過濾層， 弧源特點：膜層細膩，結合力高。（2） Φ155 mm 靶材電弧源10 套，用于主功能 膜沉積。本弧源特點：靶溫相對過低，膜 層細化，新結構磁場設計，弧斑運動更理 想穩定，沉積速率快，涂層更均勻。 4 縱列弧源配置，可在一個循環中沉積3 種不同材料膜系，保證膜層均勻。 殼體蜂巢結構，超強剛性，水冷均勻。 設備中心配置三段式水冷筒，特別適用于 機械零部件的低溫沉積。 淬火663 高速鋼滾子/ 牙輪傳動，450℃下 鍍膜保證可靠連續運轉。 根據鍍膜工藝優選配置0~1500V 連續可 調，300V/10~15A，1500V/2~3A 線形離 子源，用于輔助沉積和離子清洗。 根據工藝特點優選進口分子泵- 粗抽泵 抽氣系統，2 臺德國普發（pfeiffer） 250/2300 分子泵，歐瑞康 萊寶（oerlikon leybold）羅茨泵- 旋片泵預抽真空機組。 運行可靠，工藝帶寬闊。INFICON 符合真 空計和測量規管，INFICON 電容膜片真空 規。 Q 系三菱PLC，一體工控機，17 寸彩顯觸 摸屏，正版軟件，自動控制可靠，擴展方 便余量大。