1.機床特點：該機以壓鈑、重塊進行給產品加壓，達到單面拋光的目的,操縱面板上安裝主機電位器，拋光時間設定了時間繼電器。拋光過程可設定正、反兩種狀態。調速方式采用變頻調速，調速平穩，低速性能好。2.適用范圍：本機主要用于光學晶體，光學玻璃，表玻璃，半導體硅片，石英晶體片，壓電陶瓷，砷化鎵，鈮酸鋰、鉬片、活塞環、機械密封件、陶瓷磨片、及石墨、寶石、銅、等金屬、非金屬材料的單面拋光。3.技術參數：1.拋光盤直徑：（外徑 內徑） 612mmx255mm2.拋光盤端面跳動量： 0.07mm3.拋光盤平面度： 0.025mm4.主電機：2.2kw1450r/min380V5.最小拋光厚度：0.22mm6.最大拋光件規格： 185mm7.拋光件表面平面度：0.001mm（ 35mm）8.加工件厚度一致性： 0.004mm（ 75mm）9.設備外形尺寸：（長 寬 高）1000mm 820mm 1900mm10.質量：約1200kg