HMPD-2100C多用途微波等離子體（CVD）系統 技術特點及用途系統采用HMG-2100C，10kW/2450MHz高穩定程控微波功率源。運用完善的線路安全閉鎖控制系統，使該系統工作壽命長，電氣性能優良，安全可靠，操作簡單方便。 微波傳輸系統由高性能大功率微波環行器，銷釘調配器，帶反射波取樣的水負載以及外部連接波導組成。它確保反射波對磁控管的良好隔離，并能方便地調節最佳匹配，達到微波功率的最佳傳輸。采用新型大容積橢球型微波反應腔可在很寬的運行范圍內把微波功率耦合給等離子體，在其焦點處產生高密度、高電離度、大面積均勻穩定的微波放電。系統主要用途：1）金剛石等多種薄膜的化學汽相沉積的研究和中試加工；2）基片的刻蝕和灰化；3）作為高密度、寬束離子源；4）低溫氧化物的生長；5）等離子體表面處理和其它實驗加工。技術參數產品型號： HMPD-2100C微波源： HMG-2100C工作頻率： 2450 50MHz輸出功率： 0.5~10kW 連續可調功率穩定度： 優于 1%輸出波導接口： BJ-22帶FD-22標準法蘭輸入電源： 380V/50Hz 5% 三相四線冷卻水流量： 8L/min微波反應腔 400x600大容積橢球腔微波放電腔： 多端口，帶雙層水冷3）真空系統： 真空系統： 600L/min分子泵和旁路機組，中氣壓真空測控氣路系統： 4路MFC控制樣品支架系統： 基板直徑 100mm，軸向調節距離：0～100mm直流偏壓源： V=300V I=100mA 基片測溫： K型熱偶，測溫范圍0~1000℃